Technologien/Praxen | Digitales Textildesign

Alice Götz
Institut für Kunstwissenschaften, Kunstpädagogik und Kunstvermittlung, Textil - Freie, angewandte u. experiment. künstl. Gestaltung
2026S, künstlerisches Seminar (SEK), 2.0 ECTS, 2.0 SemStd., LV-Nr. S03062

Beschreibung

ORNAMENT NOW – KI, KRITIK & KREATIVITÄT

Ein Intensivseminar für radikale Muster, textile Technologien und kritischen Diskurs

Was, wenn Ornamente nicht nur dekorieren, sondern provozieren?

Wie gestaltest du Muster, die Geschichten erzählen – mit KI und Mikroskopen?

Dieses Seminar ist kein gewöhnlicher Kurs, sondern ein Labor für textile Rebellion!

Hier verschmelzen handwerkliche Tradition, digitale Tools und gesellschaftskritische Fragen.

 

Was erwartet dich?

Digitale Textilalchemie: Vom Digitalen Kreuzstich bis zum KI-generierten Ikatgewebe –

experimentiere mit Tools, die Tradition und Hightech verbinden.

Muster mit Message: Gestalte OpArt-Patterns und Kaleidoskopornamente, die nicht nur schön sind, sondern auch Fragen stellen.

KI als Co-Kreator: Diskutiere kritisch – nutze aber auch KI, um Ornamente zu entwerfen, welche die bekannten Muster sprengen.

 

Technologie meets Textil:

Wärmebildkameras als Mustergenerator

Persönliche Bewegungs-Muster visuell umsetzen

Pattern in Motion (Iscan als kreatives Tool)

Mikroskopische Strukturen zu monumentalen Rapporten skalieren

Eine kritische Reflexion:

Wie KI und Automation textiles Handwerk verändern

Workshop für experimentelle Probeprints

Designs für Siebdruck, digitalen Textildruck und Tapeten vorbereiten

Textil meets Technologie:

Exklusive Einblicke im Institut für Textiltechnologie (FieldTrip)

Für wen?

Kunst- und Designstudierende, die traditionelle Techniken hacken wollen.

Alle, die Muster nicht nur machen, sondern damit denken.

PS: Bring deine Skizzen, Laptop und die Lust, Regeln zu brechen, mit. Von mir kommt KnowHow, Algorithmen, Mikroskope und kontroverse Diskussionen.

Wann? Montag von 15.00 - 18.00 Uhr

Mittwoch 11.03.(KICK OFF), 18.03., 25.03., 15.04., 22.04., 29.04., 13.5.05., 20.05.2026 

Wo? VZ7, 3. Stock, Computerraum der KKP-Klasse Raum 326.

Wow! Anwesenheitspflicht (Aktive Teilnahme für Zertifikat erforderlich)

Prüfungsmodalitäten

Regelmäßige Teilnahme.

Individuelle Weiterführung der Übungen und Anwendungen in Verbindung mit einem selbst gewählten Thema.

Praktische Umsetzung eines Pattern/Ornaments auf Stoff oder Tapete (Siebdruck oder Digitaldruck),

Präsentation der Arbeitsergebnisse am Seminarende innerhalb der Seminargruppe.

Abgabe eines Portfolios (PDF-Datei) mit Arbeiten am Ende des Semesters.

 

 

Anmerkungen

Beschränkte Teilnehmer:innenzahl.

Eigener Laptop mit Photoshop CS6 oder höher von Vorteil.

Anrechenbar für FOR Phase DEX und TEX.

Als Wahlfach für alle Klassen anrechenbar.

 

Schlagwörter

Textil Pattern, AI, Digital Printing, Microscopy, FLIR, Iscan

Termine

11. März 2026, 15:00–16:30 (Vorbesprechung)
18. März 2026, 15:00–18:00
25. März 2026, 15:00–18:00
15. April 2026, 15:00–18:00
22. April 2026, 15:00–18:00
29. April 2026, 15:00–18:00
13. Mai 2026, 15:00–18:00
20. Mai 2026, 15:00–18:00

LV-Anmeldung

Von 02. Februar 2026, 09:00 bis 18. März 2026, 00:00
Per Online Anmeldung

Lehramt: Unterrichtsfach kkp (Bachelor): Schwerpunkt Digitale Grundbildung (DGB): Praxis / digitale Produktion 067/020.10

Lehramt: Unterrichtsfach dex (Bachelor): Künstlerische Praxis (dex): FOR: Technologien / Praxen (dex) 074/001.21

Lehramt: Unterrichtsfach dex (Bachelor): Schwerpunkt Digitale Grundbildung (DGB): Praxis / digitale Produktion 074/020.10

Mitbelegung: nicht möglich

Besuch einzelner Lehrveranstaltungen: nicht möglich