Lithografie 3 (Erweiterte Verfahren der Lithographie)
Masanobu Mitsuyasu
Institut für Bildende & Mediale Kunst, Zeichnung und Druckgrafik
2025W, Vorlesung und Übungen (VU), 2.0 ECTS, 2.0 SemStd., LV-Nr. S05227
Beschreibung
In diesem Druckverfahren wird traditionell auf Kalkstein oder auf Aluminiumplatte (pre-sensitized plate) gearbeitet.
Der Kursinhalt wird weitgehend frei gestaltet sein.
Ziel ist es, verschiedene Techniken, Kenntnisse und Möglichkeiten der Lithografie zu erweitern und besonders die Drucktechnik zu verbessern.
Dies erfordert viel Zeit, Geduld und einen sehr gründlichen Umgang mit Materialien, Presse sowie Geräte.
Prüfungsmodalitäten
Selbstständige Durchführung eines eigenen Projektes.
Am Ende des Semesters Präsentation von Ergebnis.
Anmerkungen
1. Termin verpflichtend, um die LV zu besuchen!
Achtung: Begrenzung auf 7 Teilnehmer/ Semester.
1. Termin: am Montag, 03.10.2025, 13:30-14:30 Uhr in der Steindruck-Werkstatt, Raum 149
Dieser Kurs steht nur Studierenden offen, die den Kurs „Lithographie 1“ oder „Lithographie 2“ abgeschlossen haben.
Studierende, die sowohl mit dem Stein und mit der Platten arbeiten, müssen die Grundkurse Lithografie 1 als auch Lithografie 2 beiden absolvieren.
Schlagwörter
Edition, Druckgrafik, Lithographie, Mischtechnik, Drucktechniken
Termine
06. Oktober 2025, 13:30–14:30 Flachdruckwerkstatt (Vorbesprechung)
LV-Anmeldung
Von 15. September 2025, 09:00 bis 02. Oktober 2025, 09:00
Per Online Anmeldung
Studienplanzuordnung
TransArts - Transdisziplinäre Kunst (Bachelor): Künstlerische und kunsttechnologische Grundlagen: Künstlerische und kunsttechnologische Grundlagen 180/002.01
Design: Kommunikationsdesign (2. Studienabschnitt): Technische Grundlagen: Druck und Druckvorstufe 577/204.05
Bildende Kunst (2. Studienabschnitt): Technischer Kontext künstlerischer Praxis: Fachspezifische Techniken 605/203.01
Bildende Kunst (2. Studienabschnitt): Technischer Kontext künstlerischer Praxis: Techniken der Druckgrafik (nur für ZKF Zeichnung und Druckgrafik) 605/203.02
Bildende Kunst (2. Studienabschnitt): Technischer Kontext künstlerischer Praxis: frei wählbar aus technischer Kontext künstlerischer Praxis 605/203.80
Mitbelegung: nicht möglich
Besuch einzelner Lehrveranstaltungen: nicht möglich